在芯片制造的领域中，光刻机无疑是一个不可或缺的核心设备。长久以来，制造商们依赖ASML的光刻机技术来实现各类芯片的生产制造。然而，技术的道路总是充满无限可能，这不，我国科研团队已经成功研制出了一款“新型光刻机”，它能够实现22nm工艺制程，为芯片制造领域注入了新的活力。

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那么，这款“新型光刻机”究竟是何方神圣呢？它采用的是超分辨率光刻技术，由中国科学院光电技术研究所在2019年取得了突破。这款光刻机利用表面等离子超衍射原理，产生波长较短的等离子体，从而在涂抹光刻胶的晶圆表面实现高精度的光刻。